原子级制造是以能量作用于原子或原子级基元,从而制造出全新材料、器件与系统的先进制造技术,是人类认知和创造新物质的里程碑。原子级制造不仅是未来信息器件、集成电路等领域的核心技术,更是我国抢占未来科技前沿、保障我国产业链安全的关键。当前半导体信息器件与集成电路芯片制造已成为国际竞争的焦点,正向原子级制造时代迈进。
纳米真空互联实验站突破了传统微纳加工超净间仅能防控颗粒污染的局限,为实现原子/分子级污染的极致控制和原子级制造提供了理想平台。通过真空互联实现原子级材料精准合成与异质集成,支撑新物质创制;发展原子精度图形化技术,推动新器件规模化制备;融合原位原子尺度表征与人工智能技术,建立材料结构、工艺条件与器件性能之间的内在关系,加速信息器件原子级制造进程。实验站以真空互联下的全新工艺范式打破常规制造技术在原子级材料与器件制造中面临的原理性和系统性壁垒,将人类制造技术推向原子级极限水平,推动科研范式变革和“从0到1”的原始创新,使我国在信息材料与器件战略前沿研究的国际竞争中争取主动权。
虽然我国原子级制造研究与世界并跑,但尚未实现可控性、可达性与可靠性的原子级制造。本次论坛将围绕当前原子级制造科学研究领域面临的以下3个重大关键问题进行研讨:
阐明原子尺度下表/界面多物理量耦合与调控机制、失效机制、构效关系。
解析真空互联材料生长/集成、器件图形化、注入和刻蚀机制等,实现器件极限制造。
需要开发跨尺度表征新方法,解析原子级单元到功能材料器件的制造过程。
会议地点
苏州国际博览中心A馆会议室
10月20日
现场注册、报到
参会代表现场签到及资料领取
10月21日 上午
第十六届纳博会
开幕式暨主报告
10月21日下午—22日全天
第十六届纳博会——
2026先进材料与器件原子级制造研讨会